1、纳米光刻机是制造芯片的关键设备,其主要作用就是提高芯片生产效率。2、纳米光刻机又称为 EUV 光刻机,主要由镜头系统、 X 射线光源、电子枪、 X 射线曝光系统等部分组成。3、纳米光刻机工作原理:利用激光束将掩模版上图形转移到光刻胶表面,然后通过电子束曝光将掩模版上的图形转移到硅片上,最终实现对半导体芯片的加工。4、目前光刻技术已经应用于集成电路和平板显示器件领域中,随着科学技术不断发展进步,未来还会有更多新型材料被运用在光刻技术当中。5、纳米光刻机能够大幅度降低芯片生产成本,并且缩短研发周期。